Oberflächenbehandlung

Chemisch Nickel-Gold, Au: min. 0,05µm, Ni: min. 3,0µm

Galvanisch Nickel-Gold, Au: min. 0,2µm

HAL SnPb (Heißluft verzinnt)

HAL Lead free (Heißluft verzinnt bleifrei)

Chemisch Sn

OSP (Organische Oberflächen)

Chemisch Silber, Ag: 0,2 – 0,4µm

(Schichtdicken und Oberflächen gelten nur für Leiterplatten)