Oberflächenbehandlung
Chemisch Nickel-Gold, Au: min. 0,05µm, Ni: min. 3,0µm
Galvanisch Nickel-Gold, Au: min. 0,2µm
HAL SnPb (Heißluft verzinnt)
HAL Lead free (Heißluft verzinnt bleifrei)
Chemisch Sn
OSP (Organische Oberflächen)
Chemisch Silber, Ag: 0,2 – 0,4µm
(Schichtdicken und Oberflächen gelten nur für Leiterplatten)